1樓：危機
石油鑽探的鑽頭，地質鑽探的鑽頭，因為金剛石塗層鑽頭的耐磨性好。硬度大，延長鑽頭的使用壽命。
cvd裝置是幹什麼的
2樓：江西國材科技****
cvd裝置（chemical vapor deposition equipment）用於執行化學氣相沉積（cvd）技術，用於製備各種型別的薄膜。cvd裝置提供了乙個控制溫度、壓力和反應氣氛等引數的環境，以促使反應氣體在基底表面發生化學反應並形成薄膜。
cvd裝置的主要功能包括：
1. 反應室：cvd裝置中的核心部分是反應室，它提供了進行cvd過程所需的封閉空間。反應室通常具有高真空密封效能，以確保適當的氣氛和反應條件。
2. 加熱系統：cvd過程通常需要在一定的溫度下進行，因此cvd裝置配備了加熱系統，用於加熱反應室和基底，以提供所需的溫度條件。
3. 氣體**系統：cvd裝置配殲含備了氣體**系統，用於**反應氣體或氣體混合物。通過控制氣體流量和比例，可以調節反應氣氛和薄膜的成分。
4. 壓力控制系統：cvd裝置還配備了壓力控制系統，用於調節反應室的壓力。這是為了確保反應氣體在適衫改枝當的壓力下進行反應，同時避免不必要的洩漏或壓力變化。
5. 廢氣處理系統：cvd過程產生大量廢氣，其中可能含有有害物質。因此，cvd裝置通常配備了廢氣處理系統，用於處理和過濾廢氣，以滿足環境和安全要求。
6. 控制系統：cvd設或敏備還具備相應的控制系統，用於監測和調節反應條件，包括溫度、壓力、氣體流量等引數。這些系統可確保cvd過程的穩定性和可重複性。
3樓：惠企百科
pvd(physicalvapordeposition)——物理氣相沉積(physicalvapordeposition):是指通過物理過程將物質從源頭轉移，並將原子或分子轉移到基底表面的過程。cvd是化學氣相沉積(chemicalvapordeposition)的簡稱，是指高溫下的氣相反應，如金屬鹵化物、有機金屬和碳氫化合物的熱分解、氫氣還原或其混合氣體在高溫下的化學反應，以沉澱出金屬、氧化物、碳化物等無機物質。
pvd技術出現，製備的薄膜具有硬度高、摩擦係數低、耐磨性好、化學穩定性好等優點。起初，在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界製造業碰廳的極大關注。在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時，人們也對塗層在硬質合金和陶瓷刀具上笑譽隱的應用進行了更深入的研究。
與cvd工藝相比，pvd工藝的處理溫度較低，在600℃以下對刀具材料的抗彎強度沒有影響。薄膜的內應力狀態為壓應力，更適合硬質合金精密和複雜工具的塗層。pvd過程對環境沒有不良影響，符合現代綠色製造的發展方向。
目前，pvd塗層技術已廣泛應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車刀、異形刀具和焊接刀具虛歲的塗層處理。
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